文|科技在前方

自華為事件爆發後，國人就意識到晶片自研的重要性。阿里、騰訊、格力等知名科技企業，紛紛投入到晶片自主研發隊伍當中，中國大陸技術最先進的晶片製造企業中芯國際也一直致力於完成7nm及以下工藝的研發。

另外，我國也啟動了晶片自給自足計劃，爭取2025年實現晶片30%到70%，完全自給自足的跨越。同時中國科學院也立下軍令狀，優先攻克光刻機、高階晶片技術等核心技術難題。我國已深刻意識到，只有將光刻機、高階晶片等核心技術難題攻克，才能解決國產晶片被“卡脖子”。

就目前而言，國產晶片整個產業鏈中，像光刻機、高階晶片技術領域我國與國外還有著很大的差距，但在核心技術的研發上，仍有不少喜訊。其中最值得關注的就是，國產晶片傳來的這兩個好訊息，事關中芯國際7nm晶片工藝和光刻機。

大家應該都知道，2018年中芯國際曾向荷蘭光刻機巨頭ASML買過一臺EUV光刻機，但是受《瓦納森協定》的影響，至今ASML都沒有將EUV光刻機送到中芯國際手上。也正是受限於此，作為中國大陸第一的晶片製造企業中芯國際，一直到現在都未能完成7nm及以下晶片的量產。

令人欣慰的是，在沒有EUV光刻機的情況下，中芯國際先後研發出14nm工藝和可比肩7nm工藝的N+1工藝。而且不久前梁孟松博士還透露，中芯國際已經完成7nm技術開發，預計今年4月份即可實現風險量產。此外，5nm和3nm最關鍵也最困難的八大項技術也已經有序展開。也就是說，一旦ASML的EUV光刻機到位，那麼中芯國際的晶片製程將再次突飛猛進，5nm、3nm也不成問題。

一直以來中芯國際都被寄予了厚望，而此次即將實現7nm的工藝，無疑對國產晶片來說是一大好訊息。而另外一個好訊息就是，我國光刻機光源技術將取得了前所未有的突破，清華大學團隊研究出了一種比現有EUV光刻機效能更好的EUV光源，解決了高階光刻機中最核心的光源“卡脖子”問題。

根據近日媒體訊息，清華大學工物系教授唐傳祥所帶領的研究團隊，成功研發出一種新型粒子加速器光源“穩態微聚束”（SSMB），並且已經透過實驗驗證發表在國際權威雜誌《自然》上。

據悉，這種新型粒子加速器光源（SSMB）的波長可覆蓋從太赫茲到極紫外（EUV）波段，有望為光子科學研究提供廣闊的新機遇，而現階段最直接的應用就是EUV光刻機。其實EUV光刻機能生產出先進晶片，最核心也是最重要的技術就是光源，只要獲取的光源波長短、功率大，那麼EUV光刻機真正的工藝製程才能得以體現。

打個比方，目前最先進的晶片工藝製程是5nm，假如EUV光刻機的波長、功率都達不到要求，那麼就算能生產出5nm的晶片也是“假的”，也就是說只有光源波長短、功率大，EUV光刻機的效能才能完美地體現出來。

要知道，當今全球範圍內，只有美國和德國兩家掌握著EUV光刻機極紫外光源解決方案，ASML採納的是美國的光源解決方案。而如今清華大學研究出的這種光源，不僅打破了美國、德國在EUV光源的壟斷地位，而且還完美地破解了我國在光刻機光源上的缺失，一旦正式商用中國光刻機技術將向前邁入一大步。

如果說，沒有EUV光刻機的幫助中芯國際能研發出7nm工藝製程是意料之中，那麼清華大學研究出的這種替代EUV光刻機的光源ASML可能怎麼都沒有想到。由此可見，只要在給我國一些時間，中國在半導體領域的地位將無可取代，晶片自給自足自然也不再話下。

正如去年華為遭遇晶片全面受限的第二天，比爾蓋茨預言：“不賣給中國晶片不僅美國將失去一些高薪工作，而且還會迫使中國加速晶片自給自足。”如今來看，比爾蓋茨的預言正在上演。最後，相信國產晶片終有一日會擺脫限制，只是或早或晚而已！

大家對此有何觀點和看法？歡迎討論！