梁孟松

是

晶片

領域內的大拿，其曾任職於臺積電，參與了臺積電所有制程晶片的開發任務，僅晶片專利技術，梁孟松自身就擁有數百項。

另外，130nm銅製工藝就是梁孟松等人聯合開發創造的，也正是因為如此，三星不惜重金將梁孟松從臺積電挖走，結果三星比臺積電早推出了14nm工藝的晶片。

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中芯國際

後，梁孟松僅用了3年時間，就讓中芯國際完成了28nm到7nm晶片的跨越。

2020年底，梁孟松正式對外發布公告稱，其已經完成了7nm晶片的開發任務，很快就將進入風險試產階段。

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但是，進入2021年後，多次傳來梁夢松的訊息，但中芯7nm晶片始終沒音。

例如，今年早些時候，中芯國際正式對外發布公告稱，將梁孟松的待遇從34萬美元提升到135萬美元，並贈送價值2000萬元的房產用於居家生活。

日前，中芯國際又正式對外發布了股權激勵計劃，向梁孟松等人贈送價值約2400萬元的股票。

也就是說，從中芯國際釋出訊息可知，梁孟松仍在中芯國際，但是，距離其宣佈7nm晶片已經過去半年，至今7nm試產、量產等仍沒有訊息。

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對此，就有國內院士表示，看看14nm便知。據瞭解，國內院士之所以這麼說，主要是因為以下幾點。

首先，14nm和7nm都屬於先進工藝製程的晶片，中芯國際在2018年10月首次對外宣佈14nm晶片研發成功，到2019年才成功流片，2019年第四季才實現量產。

也就是說，晶片研發成功後，還需要經過試產流片等，這需要一個時間過程。

而梁孟松是在2020年底宣佈7nm晶片的開發任務已經完成，2021年4月份進行風險試產，即便是按照預期進行，如今才7月份，這麼短的時間是不可能完成試產流片的。

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也就是說，中芯7nm晶片可能還在風險試產過程中，產品還沒有成功實現流片。

其次，要想生產製造7nm製程的晶片，最好是採用EUV

光刻機

，這不僅能夠提升效率，還能夠降低成本。

如果在沒有EUV光刻機的情況下，採用DUV光刻機生產製造，不僅過程複雜、成功高，良品率可能還會受到影響，最主要的是，還需要多層曝光工藝。

據瞭解，臺積電就是採用多層曝光工藝，利用DUV光刻機生產製造了7nm晶片，EUV光刻機到位後，其又推出了7nm EUV工藝。

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目前，中芯國際還沒有EUV光刻機，其自然也是採用多層曝光工藝和DUV光刻機進行生產製造。

要知道，在14nm晶片上，中芯國際就採用了多層曝光技術，也就是說，不用對中芯7nm晶片擔憂，畢竟其有DUV光刻機，還掌握了多層曝光工藝，7nm試產成功是必然的。

最後，中芯國際已經量產了14nm製程的晶片，而N+1工藝的也已經試產成功，並將在今年年底試產N+2工藝的晶片。

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要知道，N+1和N+2工藝的晶片在邏輯面積與7nm晶片類似，只不過，N+1主打低功耗，而N+2主打高效能。

而中芯國際能夠成功試產N+1工藝的晶片，其自然也能夠成功試產7nm製程的晶片，這不是什麼難題。

更何況，梁孟松都明確表示，5nm等晶片開發任務已經展開，如果梁孟松對7nm晶片試產沒有信心的話，又何必這麼快就展開5nm等晶片的開發任務呢。

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也正是因為如此，國內院士才說看看14nm便知，意思就是，技術和裝置都有了，試產成功僅僅是成功問題，安心等待即可。

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