近些年，我國在高科技領域實現了快速崛起，航天、通訊等多方面都躋身到了國際一流水平，然而，高速發展的姿態深深地觸及了西方科技大國的“敏感神經”，尤其是美國，為了鞏固其科技霸主的地位，便對華為等中企實施了晶片禁令，妄圖以此來遏制我們的發展。

由於臺積電這樣的代工巨頭，高通、英特爾這樣的IC巨頭、荷蘭ASML這樣的光刻巨頭，都在不同程度上被限制了向我國市場出口，因此，我們若想突破晶片封鎖，就只剩下了自主研發這一條路可走。

在晶片國產化的道路上，國家制定了兩條腿走路的策略，一方面是在傳統晶片即將達到物理極限的情況下，發力研發新型晶片；另一方面是在傳統晶片領域進行追趕，從裝置、材料、技術等三個層面進行破冰，從而擺脫晶片產業對海外的依賴。

在新型晶片的研發上，中科院做出了表率，自研的8英寸石墨烯晶圓在國際石墨烯創新大會上，得到了海內外媒體以及科學家們的高度認可。石墨烯作碳基晶片的原材料，其重要性不言而喻，而中科院的8英寸石墨烯晶圓不管是尺寸或者效能，都屬國際頂尖水平。

正如外媒所說，在碳基領域，中國已經邁出了堅實的一步，至少領先全球五年。

而近日，國內再次傳出好訊息，這次是關於高階光刻機，中科院再次立功。

據媒體報道，中科院旗下的上海光學高階機械研究所，簡稱“光機所”，近期在計算光刻研發上取得了巨大的進展。

“光機所”提出的OPC修正技術（

Optical proximity correction， OPC），可以在EUV光刻裝置硬體不變的情況下，最佳化照明系統與檢測功能，從而進一步提升光刻裝置的解析度。

利用這項技術可以生產出比3nm精度更高的晶片，從晶片工藝的迭代上來看，摩爾定律的延續或將因此在中國實現。

對於我國在高階光刻領域取得的成果，最為之緊張的莫過於荷蘭光刻巨頭ASML了，儘管暫時ASML在老美的出口管制規則下無法出口EUV給我們，但它卻先後多次示好我國市場，這卻恰恰反應出了它的擔憂。

我國作為全球最大的半導體消費市場，對光刻裝置的採購量超過了其他任一個國家，如果我們實現了EUV的國產化，那麼ASML就將失去唯一性，更關鍵的是，我們將會自此成為它的最大競爭對手。

以“中國製造”高質量、低價格的產品特性來看，ASML面對我們這個競爭對手並沒有多大的優勢，它在光刻市場的地位也必將因此而受到巨大的衝擊。

這也就不難理解，在我國決定自研光刻機之時，ASML為何會潑來冷水錶示：即便給中國圖紙，他們也造不出來。事實是，ASML從未把EUV核心製造圖紙交給我們，而且它怎麼會不知道“再尖端的裝置也是人造的而非神造的”，只不過是想透過這種方式讓我們知難而退罷了。

然而，面對老美無底線的封鎖，我們無暇顧及這些傾向於中國市場的美系企業的利益，畢竟是它們無法及時提供給我們所需的半導體裝置。因此，我們在自主研發的同時，或將給它們帶來的“誤傷”完全是老美的問題。

目前國產晶片產業在中低端領域已站穩了腳跟，正在向高階領域發起衝擊，而且清華大學等高校的科研團隊在EUV領域也已取得了不小的研發成果，隨著時間的推進，ASML的擔憂或將成為現實。