解讀國產光刻機困局(一):極紫外EUV光源研發進度我們在Gigaphoton公開資料裡看到,其中重點分析了EUV光源的四大攻關難點(圖3):1,磁控去汙染技術(約2010年獲得穩定解決方案)2,錫液體發生技術(約2006年獲得初步解決方案)3,鐳射預脈衝技術(約2012年獲得初步解決方案)...