點選關注，每天精彩不斷！

導讀：

被“潑冷水”！重金研發光刻機，不如“做透”55nm晶片？

眾所周知，隨著現代科技的快速發展，如今我們對半導體晶片的依賴程度也正在不斷地加深，作為整個現代科技領域發展的核心，半導體晶片的研發無疑也是十分重要的；此前我國在晶片領域的發展一直都是比較落後的，這也導致國產科技企業的發展很容易被人“卡脖子”，在華為公司被打壓以後，就直接給無數國產科技企業的發展敲響了警鐘！

我們要想在國際科技市場上的發展不受制於人，那麼打造屬於我們自己的中國半導體晶片產業鏈無疑也是十分重要的；但我們想要打造自主晶片產業鏈，首先要解決的難題就是光刻機的研發問題，要知道，想要生產先進工藝的晶片，那麼就必須要有光刻機的支援才行，一塊只有指甲蓋大小的半導體晶片內部可能就含有上百億個電晶體線路，而完成這一工作只有光刻機能行，所以光刻機也就成為了晶片生產領域的核心重要裝置！

目前全球最先進的光刻機是來自於荷蘭ASML公司的EUV光刻機，這一光刻機可以生產7nm、5nm工藝以下的晶片；雖然說國內的科技企業一直都想要從ASML手中購買EUV光刻機，但因為種種原因的限制，我們始終都沒能如願；所以在國內也開始興起了一股研發光刻機的潮流，一時間眾多的國產科技企業都開始展開了對光刻機等卡脖子技術的研發！

雖然說光刻機的研發非常的困難，但是我們也並沒有因此而放棄，像中科院、上海微電子、清華大學等機構都已經展開了對光刻機的研發，其中上海微電子所自研的28nm光刻機已經取得了成功，在年底前就能交付使用，可以說中國晶片的發展速度也是非常迅猛的，然而就在這個時候，中國工程院的院士吳漢明卻公開表示：先進工藝光刻機的研發並不是一朝一夕就能完成的，我們花費巨大的人力和物力去研發先進工藝光刻機，還不如將55nm晶片技術給“做透”，畢竟現在全球晶片市場上短缺的晶片就是55nm以上成熟工藝的晶片。

要知道，中國晶片正在如火如荼的發展著，卻突然被“潑冷水”，這也讓不少人都覺得不是很理解！畢竟現在華為缺少的是7nm工藝以下的晶片，如果我們能研發出先進工藝的EUV光刻機，那麼華為不就不會再被人卡脖子了嘛！事實也確實如此，但我們還要明白，一臺先進的EUV光刻機含有10萬多個零部件，而且這些核心零部件還來自於全球各地，所以我們想要靠自己的一己之力並在短時間裡就攻克先進工藝的光刻機技術顯然也是不可能的。

在我看來，現在先進工藝的光刻機和晶片技術需要研發，而55nm的成熟工藝晶片也需要“吃透”，畢竟晶片的研發和生產都是需要大量的資金支援的，只有我們站穩了成熟工藝晶片市場，才能獲得更多國際市場的晶片訂單，從而賺更多的資金來支援我們研發先進工藝的晶片，這是一個良性迴圈的過程，科技研發需要腳踏實地，我們不能一口吃個大胖子，不知道對此你是怎麼看的呢？